কোম্পানির খবর PERC সেল ব্যাক প্যাসিভেশন স্তরের স্থানীয় খোলার চিকিত্সায় UVLED এর প্রয়োগ

PERC সেল ব্যাক প্যাসিভেশন স্তরের স্থানীয় ওপেনিং ট্রিটমেন্টে UVLED-এর প্রয়োগ

  যেহেতু ফটোভোলটাইক প্রযুক্তি বিকশিত হচ্ছে, PERC সেলগুলি, তাদের উচ্চ ফটোইলেকট্রিক রূপান্তর দক্ষতার সাথে, ধীরে ধীরে বাজারে মূলধারায় পরিণত হয়েছে। PERC সেলগুলির একটি মূল সুবিধা হল তাদের ব্যাক-সাইড প্যাসিভেশন স্তর, একটি বিশেষ কাঠামো যা কার্যকরভাবে আলো প্রতিফলিত করে, যা আলোর পরিমাণ বাড়ায় এবং এইভাবে কোষের বিদ্যুৎ উৎপাদন দক্ষতা উন্নত করে। যাইহোক, ইলেক্ট্রোডগুলির মধ্যে বৈদ্যুতিক আন্তঃসংযোগ অর্জনের জন্য, ব্যাক-সাইড প্যাসিভেশন স্তরে স্থানীয় ওপেনিং প্রয়োজন। ঐতিহ্যবাহী পদ্ধতিগুলি প্রায়শই অপর্যাপ্ত নির্ভুলতা, কম দক্ষতা এবং কোষের সম্ভাব্য ক্ষতির মতো সমস্যাগুলির শিকার হয়।

  PERC সেলের পিছনে প্যাসিভেশন স্তরটি প্রধানত অ্যালুমিনিয়াম অক্সাইড (Al₂O₃) এবং সিলিকন নাইট্রাইড (SiN) এর মতো উপকরণ দিয়ে গঠিত। এই উপকরণগুলির চমৎকার আলো প্রতিফলন এবং প্যাসিভেশন বৈশিষ্ট্য রয়েছে, যা কোষের শর্ট-সার্কিট কারেন্ট এবং ওপেন-সার্কিট ভোল্টেজ উন্নত করতে সাহায্য করে। যাইহোক, কোষগুলির মধ্যে বৈদ্যুতিক আন্তঃসংযোগ অর্জনের জন্য, প্যাসিভেশন স্তরে ক্ষুদ্র উইন্ডো তৈরি করতে হবে যাতে ইলেক্ট্রোডগুলি প্যাসিভেশন স্তর ভেদ করতে পারে এবং সিলিকন সাবস্ট্রেটের সাথে যোগাযোগ করতে পারে। যদিও লেজার এচিং এবং রাসায়নিক এচিংয়ের মতো ঐতিহ্যবাহী পদ্ধতিগুলি এই লক্ষ্য অর্জন করতে পারে, তবে তাদের কিছু সীমাবদ্ধতা রয়েছে যা ব্যবহারিক অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে কাটিয়ে ওঠা কঠিন।

  365-405nm তরঙ্গদৈর্ঘ্যের উচ্চ-শক্তির অতিবেগুনি আলো PERC কোষের পিছনের প্যাসিভেশন স্তরের আলোক সংবেদনশীল উপাদানের সাথে ভালোভাবে মিলে যায়, যা একটি ফটোকেমিক্যাল প্রতিক্রিয়ার মাধ্যমে প্যাসিভেশন স্তরের স্থানীয় অপসারণের সুবিধা দেয়। অনুশীলনে, UVLED এরিয়া লাইট সোর্সের তীব্রতা, সময়কাল এবং স্পট আকারের সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ মাইক্রন-স্তরের অ্যাপারচার নির্ভুলতা সক্ষম করে, যা নিশ্চিত করে যে ইলেক্ট্রোড উইন্ডোর আকার এবং অবস্থান নকশা প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।

  UVLED সারফেস লাইট সোর্সগুলি অপারেশনের সময় অত্যন্ত কম তাপ উৎপন্ন করে। ঐতিহ্যবাহী তাপ নিরাময় পদ্ধতির তুলনায়, নিরাময় প্রক্রিয়াটি কার্যত কোষগুলিতে কোনও তাপীয় চাপ সৃষ্টি করে না। এর মানে হল যে ব্যাক প্যাসিভেশন স্তরের স্থানীয় ওপেনিংয়ের সময়, PERC সেলের সিলিকন সাবস্ট্রেট এবং অন্যান্য কার্যকরী স্তরগুলি তাপীয় ক্ষতি থেকে সুরক্ষিত থাকে, যার ফলে কোষের ফটোইলেকট্রিক রূপান্তর দক্ষতা এবং দীর্ঘমেয়াদী স্থিতিশীলতা বজায় থাকে। এটি ফটোভোলটাইক মডিউলগুলির সামগ্রিক কর্মক্ষমতা এবং পরিষেবা জীবন উন্নত করার জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।

  UVLED সারফেস লাইট সোর্স দ্রুত নিরাময় প্রদান করে, যা অল্প সময়ের মধ্যে প্যাসিভেশন স্তরে স্থানীয় ওপেনিং সম্পন্ন করতে সক্ষম করে। ঐতিহ্যবাহী লেজার এবং রাসায়নিক এচিং প্রক্রিয়ার তুলনায়, UVLED সারফেস লাইট সোর্স দ্রুত নিরাময় গতি প্রদান করে, যা উৎপাদন চক্রকে উল্লেখযোগ্যভাবে ছোট করে এবং উৎপাদন লাইনের চক্রের সময় এবং উত্পাদনশীলতা বৃদ্ধি করে। এটি ফটোভোলটাইক কোম্পানিগুলিকে একই উৎপাদন সময়সীমার মধ্যে আরও কোষ তৈরি করতে সক্ষম করে, যা উচ্চ-দক্ষতা সম্পন্ন ফটোভোলটাইক পণ্যের ক্রমবর্ধমান বাজারের চাহিদা মেটাতে সহায়তা করে।

  ফটোভোলটাইক প্রযুক্তির ক্রমাগত অগ্রগতির সাথে, PERC সেলগুলিও বিকশিত হচ্ছে এবং TOPCon সেলগুলির মতো নতুন প্রজন্মের উচ্চ-দক্ষতা সম্পন্ন ফটোভোলটাইক সেল প্রযুক্তি ধীরে ধীরে আবির্ভূত হচ্ছে। এই নতুন প্রযুক্তিগুলি সেল কাঠামো এবং প্রক্রিয়াকরণের ক্ষেত্রে ব্যাক প্যাসিভেশন স্তরের স্থানীয় ওপেনিংয়ের উপর উচ্চতর প্রয়োজনীয়তা চাপিয়েছে। UVLED সারফেস লাইট সোর্সগুলি তাদের চমৎকার প্রযুক্তিগত কর্মক্ষমতা এবং নমনীয় কাস্টমাইজেশন ক্ষমতা সহ এই উদীয়মান ক্ষেত্রগুলিতে গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করতে পারে বলে আশা করা হচ্ছে।